현대 문명은 많은 공업 제품에 의하여 이루어지고 있으며, 이러한 공업제품을 생산하는 제조 공간은 엄격한 환경 조건이 요구되어 진다. 더구나 생산 환경은 제품의 종류나 제조 공장에 따라 전혀 다른 양상을 띈다.

예를 들어 인스턴트 커피의 제조 공정에서는 섭씨 수백도 이상의 고온의 공기중에서 건조시키는 경우가 있는가 하면 빙점하 수십도 이하로 일단 냉동 시킨 후 건조시키는 경우도 있다. 또한 합성 섬유의 방사 공정에서는 주의 공기의 온·습도가 적절히 유지되지 않으면 품질이 저하된다. 특히 최근 들어 성장이 눈부신 반도체 공정에는 0.1미크론이라는 극소의 입자도 허용치 않는다. 우리의 기술과 경험은 이러한 산업의 제조, 검사과정, 완료, 제품의 포장, 저장, 수송 등에서의 환경유지를 위한 기술이다.

20세기 중엽 반도체의 모태인 트랜지스터가 발명된 후 지속적으로 발전되어온 반도체 기술은 90년대 후반부터 고집적화, 미세프로세스의 시대를 맞이하여 현재에는 IG Dram의 상용화 시대를 맞이하고 있습니다.

따라서 차세대 크린룸 기술에서는 미세입자 뿐만 아니라 크린룸내에 확산되는 미량의 이온, 유기미스트, 산성 및 알카리성가스까지도 계면과 피막에 영향을 미쳐서 수율과 신뢰성에 직접적으로 관련이 되기 때문에 ppb레벨(10억분의 1이하)에서 제어되어야 하며 청정관리 또한 TCC(Total Contamination Control) 개념의 도입이 필요합니다.